EV集團（EVG）是面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶片鍵合和光刻設備的領先供應商，今天宣布與高功率制造商Inkron合作和低折射率（RI）涂層材料，為開發和生產高質量衍射光學元件（DOE）結構提供優化的工藝并匹配高RI材料。這些DOE結構包括用于增強/混合/虛擬現實（AR / MR / VR）設備的波導，以及用于汽車，消費電子和商業應用中的用于高級光學傳感的分束器和擴散器。

       這種伙伴關系正在EVG的NILPhotonics內開展®在其總部圣弗洛里安，奧地利能力中心。EVG的NILPhotonics能力中心為整個NIL供應鏈中的客戶和合作伙伴提供了一個開放式創新孵化器，以協作縮短創新光子設備和應用的開發周期并縮短產品上市時間。作為該協議的一部分，Inkron還購買了EVG ® 7200 NIL系統用在了自己的研發機構，加快新型光學材料的開發和認證。該EVG 7200系統利用EVG的創新SmartNIL ®先進的技術和材料專業知識，可實現大面積小至30 nm的微米和納米級結構的大規模生產，并具有無與倫比的低力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的印章分離。

       Markus Wimplinger說：“整個商業和消費市場對基于晶片的光學組件和傳感器的需求正以驚人的速度增長，從而推動了對經過優化以滿足這些市場所需的性能要求和產量的材料和工藝的需求。” EV Group公司技術開發和IP總監。“ Inkron在光學材料方面擁有廣泛的專業知識，并且是高和低RI涂層的領先制造商之一，這使該公司成為與我們的NILPhotonics能力中心合作的理想合作伙伴。像這樣的合作使EVG能夠進一步探索和擴展我們的NIL技術的應用和功能，從而確保為下一代光學設備和最終產品提供可用于生產的解決方案。”

       光學元件和組件的材料特性對封裝的光學設備的整體性能和形狀因素有重大影響。例如，更高的折射率（高達1.9x或更高）可實現優化的設計，以改善光的輸出耦合，這可以顯著增加波導的視場，從而在AR / VR頭戴式耳機中提供更身臨其境的體驗。更高的RI材料還可以提供更高的光密度，并使用于分束（例如用于面部識別傳感器）的衍射光學器件效率更高，從而支持光學器件的進一步小型化。高RI材料的其他優化可以改善膜的透明度，并減少霧度和散射，從而提供更好的對比度，而改善的樹脂穩定性可以滿足更嚴格的熱要求，

       針對NIL處理優化高RI材料有助于確保其在批量生產中的實施。NIL是制造光學元件的一種行之有效的方法，因為它能夠在高容量下提供具有成本效益的納米級特征圖案，同時對特征尺寸，形狀和復雜性不敏感。

Inkron首席執行官Juha Rantala表示：“我們很高興與EV Group合作，加速引入新的，優化的和創新的光學材料技術，這些技術有助于解決客戶的關鍵性能路線圖。” “我們的納米級可壓印高折射率材料和相匹配的間隙填充涂層，再加上EVG領先的NIL系統，可提供光學制造商所需的關鍵晶圓級解決方案，以快速擴大其最新產品的產量。”

晶圓級光學的應用和解決方案

       EVG的NIL系統構成了該公司WLO制造解決方案的關鍵組成部分，該解決方案為移動消費電子產品提供了許多新穎的光學傳感設備。關鍵示例包括3D感應，飛行時間，結構光，生物識別，面部識別，虹膜掃描，光學指紋，光譜感應，環境感應和紅外成像。其他應用包括汽車照明，地毯，平視顯示器，車內感應和LiDAR以及用于內窺鏡相機，眼科應用和外科手術機器人的醫學成像。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics能力中心提供支持。有關EVG的WLO解決方案的更多信息，請訪問：鍵合機光刻機設備。

關于墨客隆

       長瀨集團的成員Inkron是高折射率和低折射率（RI）涂層材料的開發商和制造商。這些行業領先的光學涂料覆蓋了VIS / NIR范圍內創紀錄的RI范圍，介于1.1和2.0之間。高RI材料針對納米壓印光刻（NIL）工藝進行了優化。目標應用包括DOE（衍射光學元件），例如XR設備的波導，光學擴散器，LIDAR和其他光子應用。高折射率材料得到了Inkron匹配的RI范圍為1.1-1.4的低折射率材料的補充。低RI材料的典型應用包括抗反射涂層（可見光和NIR范圍），波導包層和粘合劑層。內部合成樹脂和配方具有光學透明性，具有熱穩定性，并已準備就緒，可用于苛刻的應用。Inkron提供的其他產品包括導熱粘合劑，密封材料和一系列可印刷油墨。