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Subnano 輪廓儀

Subnano 輪廓儀

??NanoX-2000/3000系列、3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。


??產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

??美國(guó)硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統(tǒng)軟件

??關(guān)鍵硬件采用美國(guó)、德國(guó)、日本等知名品牌

??PI納米移動(dòng)平臺(tái)及控制系統(tǒng)

??Nikon干涉物鏡

??NI信號(hào)控制板和Labview64 控制軟件

??TMC光學(xué)隔振臺(tái)

??測(cè)量準(zhǔn)確度重復(fù)性達(dá)到世界先進(jìn)水平(中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院證書(shū))




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