岱美公司收到了EVG6200NT光刻機的訂單

發布時間：2009-01-20

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岱美公司收到了EVG6200 NT光刻機的訂單，該客戶來自華南地區知名的綜合性大學，客戶的科研能力和研究水平經過前兩年的基礎鋪墊開始迅速提高。目前承擔的科研任務以ZF項目為主，包括科技部提出的國家高技術重大研究計劃項目（863），國家重大基礎研究項目（973）和國家基金委的重大研究項目等，是973首席科學家單位。客戶購入此機臺主要應用于TFT-LCD項目的研究與開發。

EVG6200NT是EVG公司2008年末才推出的新型號。

EV Group NT系列新型： EVG620NT , EVG6200 NT。

EVG推出了新一代的EVG620 NT和EVG6200 NT系列曝光機——EVG620NT的曝光范圍從蕞小5mm到150mm，EVG6200NT曝光范圍從3英寸到200mm。EVGNT系列高質量的體現了新的技術發展水平，包括了一個花崗石底座，主動隔離防震平臺和線性驅動位移馬達使其可以達到更高的精度和產出。基于EVG靈活和多功能的曝光平臺，在R&D和批量生產之間的工藝轉換（手動模式到全自動）此新系統使用戶可以輕松地得以實現。批量生產的實現和曝光精度的提高——達到0.1um，再加上實時曝光精度的檢測系統（可選項），這樣為用戶提供了一個重要的更好的成本效益控制方案。

（該系統將于2009年12月交付，安裝和和驗收）